成功案例
SUCCESS CASE
集成电路布图设计登记

 

  集成电路布图设计:是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

  集成电路布图设计保护:集成电路布图设计是TRIPS协议所规定应保护的知识产权,我国已先后于2001年4月和2001年9月公布了《集成电路布图设计保护条例》及其实施细则,并于2001年10月1日起正式实施。集成电路布图设计专有权必须经国家知识产权行政部门,即国家知识产权局登记后生效。

  办理集成电路布图登记途径:申请布图设计登记应提交布图设计登记申请表,布图设计的复制件或者图样等材料。中国单位或个人可以自行提交有关申请,也可以委托专利代理机构办理。国外申请人必须经过国家知识产权局指定的代理机构办理。

  集成电路布图设计专有权的保护期限:

  1)集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。

  2)集成电路布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记。

  集成电路布图设计提交的材料

  1)集成电路布图设计登记申请表,填写:申请人的姓名或者名称、地址或者居住地;申请人的国籍;集成电路布图设计的名称;集成电路布图设计创作者的姓名或者名称;集成电路布图设计的创作完成日期;集成电路的分类;集成电路布图设计登记申请有保密信息的,含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数;申请人或者专利代理机构的签字或者盖章;申请文件清单;附加文件及样品清单。

  2)集成电路布图设计的复制件或者图样。

  3)集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的,申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品;

  4)国家知识产权局规定的其他材料。

  集成电路布图设计登记的流程

  提交相关材料→集成电路布图设计登记申请经初步审查→由国务院知识产权行政部门予以登记→发给登记证明文件并公告。

  如果经初步审查被驳回。则申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的,可以自收到通知之日起3个月内,向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部门复审后,作出决定,并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的,可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。

  代理流程:客户咨询→我们作初步分析→委托代理→客户提供集成电路布图设计的复制件或者图样以及相关申请人信息→流程部负责后续注册登记及监管工作。

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